[신제품] LPP 기반 13.5nm EUV 광원 출시 안내
작성자 관리자
날짜 2020-07-31 14:00:01
당사는 네델란드소재 ISTEQ (www.isteq.nl) 사의 최신 반도체 검사계측용 EUV 광원을 국내에 출시합니다.
고속 회전하는 Sn 액체 타겟에 펄스레이저 빔을 집속하여 생성된 레이저플라즈마 (Laser-Produced Plasma, LPP) 에서 콜렉션미러를 사용하여 파장 13.5nm in-band EUV 광만을 선별 집광합니다.
100W 출력의 레이저인 경우, 5mW 이상의 EUV 광출력을 제공함으로써 Actinic EUV 현미경 및 검사계측용으로 충분한 Brightness를 제공합니다.
동시에 고속회전 액체 타겟으로부터 Debris 가 획기적으로 경감된 깨끗한 EUV 포톤을 제공합니다.
시스템은 고속회전 Sn 액체 타겟을 포함한 레이저플라즈마 진공챔버 및 EUV 집광기, 레이저광원 및 집속장치, 관련 진공장치로 턴키구성이며, 테이블톱 사이즈로 제공되기 때문에 EUV 관련 소재부품 및 검사계측 장비 연구개발에 효율적인 솔루션이 될 것입니다.
보다 자세한 사항은 당사와 협의하여 주십시오.